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电子装备——等离子刻蚀机

来源:     编辑:系统管理员     发布时间:2009年07月15日              

  用途:

  用于单晶硅太阳电池、多晶硅太阳电池及微晶硅太阳电池制造工艺中,对硅片周边扩散生成的掺杂硅膜层、化学气相淀积生成的氮化硅膜层进行周边刻蚀。

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